机译:用铟 - 氧化铟锡靶的DC磁控溅射等离子体中高能O离子粒子通量的定量评价
Nagoya Univ Dept Elect Engn &
Comp Sci Nagoya Aichi 4648603 Japan;
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negative oxygen ion; DC magnetron sputtering; ITO sputter; calorimetry method; heat flux; absolute evaluation of particle flux; QMA;
机译:用铟 - 氧化铟锡靶的DC磁控溅射等离子体中高能O离子粒子通量的定量评价
机译:多目标DC-RF磁控溅射方法在AISI 316 LVM基底上制造的Si-DLC涂层的力学性能,化学分析和抗菌响应评估,用于潜在的生物医学应用
机译:菱形如碳涂层掺杂由多目标DC-RF磁控溅射法制造的Si - 机械性能,化学分析和生物学评估
机译:通过凝结来自低压电弧等离子体中溅射靶材的粒子通量进行涂层沉积
机译:溅射靶腐蚀及其对长时间直流磁控溅射镀膜的影响
机译:磁控溅射聚合物靶材:从薄膜到非均质金属/等离子聚合物纳米颗粒
机译:DC磁控溅射O-和Zn-极性ZnO膜的生长