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Quantitative evaluation of high-energy O- ion particle flux in a DC magnetron sputter plasma with an indium-tin-oxide target

机译:用铟 - 氧化铟锡靶的DC磁控溅射等离子体中高能O离子粒子通量的定量评价

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摘要

O- ion flux from the indium tin oxide (ITO) sputter target under Ar ion bombardment is quantitatively evaluated using a calorimetry method. Using a mass spectrometer with an energy analyzer, O- energy distribution is measured with spatial dependence. Directional high-energy O- ion ejected from the target surface is observed. Using a calorimetry method, localized heat flux originated from high-energy O- ion is measured. From absolute evaluation of the heat flux from O- ion, O- particle flux in order of 10(18) m(-2) s(-1) is evaluated at a distance of 10 cm from the target. Production yield of O- ion on the ITO target by one Ar+ ion impingement at a kinetic energy of 244 eV is estimated to be 3.3 x 10(-3) as the minimum value.
机译:使用量热法定量评估来自氧化铟锡(ITO)溅射靶的O-离子通量。 使用带有能量分析仪的质谱仪,通过空间依赖来测量O-能量分布。 观察到从靶表面喷射的定向高能O-离子。 使用量热法测量源自高能O-离子的局部热通量。 从对O-离子的热通量的绝对评估,在距目标10cm的距离为10(18)℃(-2)(-2)(-2)(-2)(-1)的距离中的O-粒子通量。 通过一个Ar +离子冲击在244eV的动能下通过一个Ar +离子冲击的IO离子的生产产率估计为3.3×10(3),为最小值。

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