机译:工作压力对Cr掺杂ZnO薄膜结构,光学和电性能的影响
Northeast Petr Univ Sch Elect Sci Daqing 163318 Heilongjiang Peoples R China;
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Cr-doped ZnO thin films; working pressure; RF magnetron sputtering; optical and electrical properties;
机译:工作压力对Cr掺杂ZnO薄膜结构,光学和电性能的影响
机译:工作压力对溅射沉积的AZO薄膜的结构,光学和电学性质的影响
机译:氧气压力对脉冲激光沉积制备Nb掺杂ZnO薄膜结构,电学和光学性能的影响
机译:通过退火氧气压力影响Li-掺杂ZnO薄膜的结构,电气和光学性能
机译:通过常压金属有机化学气相沉积法沉积的氮化铝薄膜的电,结构和光学性质。
机译:快速热退火对原子层沉积生长Zr掺杂ZnO薄膜的结构电学和光学性质的影响
机译:基板温度对ZnO:Al薄膜结构,电学和光学性质的影响
机译:Cr掺杂和非化学计量V2O3薄膜的电学,结构和光学性质(预印本)