㈱ササクラ

摘要

半導体を造る上でシリコンウエハーの洗浄は最も重要な工程である。従来から採られているのが，1960年代にアメリカのRCA社が開発し，RCA洗浄と一般に呼ばれ今日に至るまで世界で多用されている洗浄方法である。この方法はシリコンウエハー上の有機物，パーティクル，金属汚染を除去する工程で硫酸（H2SO4），過酸化水素（H2O2），水酸化アンモニウム（NH40H），塩酸（HCl）等々の薬液を使用する。