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机译:金属表面上钌的化学二酮酸盐原子层沉积(ALD)前体
Univ Calif Riverside Dept Chem Riverside CA 92521 USA;
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机译:金属表面上钌的化学二酮酸盐原子层沉积(ALD)前体
机译:β-二酮酸金属前体与O自由基在金属氧化物原子增强原子层沉积中的表面反应动力学
机译:原子层沉积的原位俄歇电子能谱研究:钌ALD在Si-H,SiO2和HfO2表面上的生长引发和界面形成反应
机译:金属氮化物和金属氧化物膜生长的原子层沉积(ALD)工艺的表面化学
机译:铜前体在金属表面上用于原子层沉积(ALD)的表面反应性。
机译:通过在3D金属支架上通过原子层沉积(ALD)制备的高性能共形层状硫化锡(SnSx)对高性能超级电容器电极的活性增强
机译:用X射线光电子能谱研究β-二酮铜(I)的表面化学性质和SiO2上Cu2O的原子层沉积