机译:使用环状Ar / C4F8和Ar / CHF3等离子体表征Si的氟碳辅助原子层蚀刻
Univ Maryland Dept Mat Sci &
Engn College Pk MD 20742 USA;
Univ Maryland Dept Phys College Pk MD 20742 USA;
IBM TJ Watson Res Ctr Yorktown Hts NY 10598 USA;
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机译:使用环状Ar / C4F8和Ar / CHF3等离子体表征Si的氟碳辅助原子层蚀刻
机译:基于模型的BCl3 / Ar和BCl3 / CHF3 / Ar等离子体耦合ZrO2蚀刻机理的分析
机译:用Ar和CHF_3等离子体对SiO_2进行原子层刻蚀:一种与纵横比无关的自限制刻蚀工艺
机译:在电感耦合等离子体反应离子蚀刻系统中使用基于SF6 / C4F8 / AR / O2的SF6 / C4F8 / AR / O2的石英的高速各向异性蚀刻
机译:用于图案转移的高精度等离子刻蚀:基于碳氟化合物的原子层刻蚀
机译:腔室壁对使用循环Ar / C4F8等离子体的氟碳辅助的SiO2原子层蚀刻的影响
机译:在加氢的碳氟化合物(CF 4 ∕ Ar ∕ H 2和C 4 F 8 ∕ Ar ∕ H 2)等离子体中的Si上选择性刻蚀高kk HfO 2膜