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机译:通过等离子体辅助原子层沉积产生超薄BATIO3膜的热导率
Kyung Hee Univ Dept Mech Engn 1732 Deogyeong Daero Yongin 17104 Gyeonggi Do South Korea;
Stanford Univ Dept Mat Sci &
Engn Stanford CA 94305 USA;
Stanford Univ Dept Mat Sci &
Engn Stanford CA 94305 USA;
Stanford Univ Dept Mech Engn Stanford CA 94305 USA;
High-dielectric-constant thin films; Barium titanate (BaTiO3); Atomic layer deposition; Thermal conductivity; Remote plasma;
机译:通过等离子体辅助原子层沉积产生超薄BATIO3膜的热导率
机译:原子层沉积生长的Er +3 sup>:Y2O3薄膜的热导率
机译:原子层沉积法生长的Er〜(+3):Y_2O_3薄膜的热导率
机译:超氧化物和金属膜的等离子体辅助原子层沉积
机译:各种氧化物薄膜原子层沉积和热原子层蚀刻工艺的机械研究
机译:使用定制的原子层沉积生长的ZnO薄膜基质电导率对细胞形态发生和增殖的影响
机译:三甲基镓和三乙基镓作为“ ga”源材料的比较,这些材料用于通过空心阴极等离子体辅助原子层沉积在Si(100)衬底上生长超薄GaN膜
机译:等离子体增强原子层沉积ag薄膜的类似等离子体行为。