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机译:用于原子级设备制造的CMOS平台
IBM Res Zurich Saumerstr 4 CH-8803 Ruschlikon Switzerland;
IBM Res Zurich Saumerstr 4 CH-8803 Ruschlikon Switzerland;
CEA Lab Elect Technol Informat F-38054 Grenoble France;
CEA Lab Elect Technol Informat F-38054 Grenoble France;
CEA Lab Elect Technol Informat F-38054 Grenoble France;
CEA Lab Elect Technol Informat F-38054 Grenoble France;
IBM Res Zurich Saumerstr 4 CH-8803 Ruschlikon Switzerland;
Univ Grenoble Alpes F-38000 Grenoble France;
IBM Res Zurich Saumerstr 4 CH-8803 Ruschlikon Switzerland;
atom-scale fabrication; dopant device; silicon-on-insulator; CMOS;
机译:用于原子级设备制造的CMOS平台
机译:单晶锗中原子级,施主基器件的完整制造路线
机译:制备Ge(001)表面以制备原子级锗器件
机译:在晶格工程衬底(SOLES)上制造硅,作为CMOS和光电器件单片集成的平台
机译:用于对片上异质流体进行电泳控制的CMOS集成电路平台的建模,制造和测试:实现定制CMOS芯片上的颗粒分离。
机译:CMOS MEMS制造技术和器件
机译:用于原子级设备制造的CMOS平台