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机译:通过蒸发和磁控溅射沉积的纳米柱式Ti薄膜的动能诱导的生长制度
Inst Ciencia Mat Sevilla Avda Amer Vespucio 49 E-41092 Seville Spain;
Inst Ciencia Mat Sevilla Avda Amer Vespucio 49 E-41092 Seville Spain;
Inst Ciencia Mat Sevilla Avda Amer Vespucio 49 E-41092 Seville Spain;
UAM CSIC CEI IMN CNM Isaac Newton 8 E-28760 Tres Cantos Spain;
Inst Ciencia Mat Sevilla Avda Amer Vespucio 49 E-41092 Seville Spain;
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Inst Ciencia Mat Sevilla Avda Amer Vespucio 49 E-41092 Seville Spain;
oblique angle deposition; magnetron sputtering; nanostructuring processes; thin film growth; kinetic energy; plasma-surface interaction;
机译:通过蒸发和磁控溅射沉积的纳米柱式Ti薄膜的动能诱导的生长制度
机译:高功率脉冲磁控溅射和直流磁控溅射技术沉积的低电阻率Ru_(1-x)Ti_xO_2薄膜
机译:倾斜入射磁控溅射沉积多孔金薄膜的生长机制:从致密到柱状微观结构
机译:溅射电流对(Ti_(1-x)Cr_x)N薄膜的结构和形貌的影响,反应性不平衡磁控掺杂沉积
机译:磁控共溅射沉积组成梯度锶锶镧锰矿薄膜的综合研究。
机译:通过磁控溅射中氮流量的氮气流量调节的Ti-Zr三元氮化物薄膜的结构组成和等离子体特性
机译:通过HIPIMS / DC-磁控管混合溅射从TiB2和Si靶共溅射沉积非晶Ti-B-Si-N薄膜的生长和性能