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鲜晓斌; 吕学超; 伏晓国; 任大鹏;
中国工程物理研究院,;
沉积真空; 铀薄膜; 组成; 结构;
机译:沉积条件对射频磁控溅射沉积羟基磷灰石薄膜组成,织构和微观结构的影响
机译:沉积参数对射频沉积CrN薄膜的组成,结构,密度和形貌的影响磁控溅射
机译:射频功率对射频磁控溅射沉积铝掺杂ZnO薄膜结构,形貌,电学,组成和光学性质的影响
机译:沉积后真空退火处理的直流磁控溅射Nd-Fe-B薄膜的磁学和微观结构性能
机译:射频磁控溅射沉积的氧化钇稳定的氧化锆薄膜的结构和材料性能评估。
机译:通过真空蒸发沉积的纳米结构ZnO薄膜的表征
机译:制备参数对RF磁控溅射沉积MGO薄膜的结晶,微观结构,表面组成和光学性能的影响
机译:电场和磁场,基板温度,压力和蒸发速率对气相沉积金属薄膜的成核,结构和残余性能的影响
机译:通过真空沉积法在基板上沉积薄膜,包括在蒸发源中加热蒸气云形式的涂料直到其蒸发,然后将蒸发的涂料散布在基板表面上
机译:在蒸发器中分离衬底上的蒸发材料的方法,涉及通过改变真空接收器内的主要压力来影响用于分离衬底上的蒸发材料的沉积速率。
机译:真空沉积设备,由于蒸发材料混合并沉积时,蒸发材料的混合比在膜的深度恒定,因此能够形成均质的薄膜
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