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Electrical and optical properties of point defects in ZnO thin films

机译:ZnO薄膜中点缺陷的电学和光学性质

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摘要

We show that the deposition of ZnO films under varying oxygen partial pressure and annealing conditions allows for the controllable formation of specific defects. Using x-ray diffraction and photoluminescence, we characterize the defects formed and show that these defects are responsible for changes in film carrier density, carrier type, sheet resistivity and mobility.
机译:我们表明,在变化的氧气分压和退火条件下,ZnO薄膜的沉积可控制形成特定的缺陷。使用X射线衍射和光致发光,我们表征了形成的缺陷,并表明这些缺陷是造成薄膜载流子密度,载流子类型,薄层电阻率和迁移率变化的原因。

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