首页> 中文期刊>科技创新与应用 >退火对N掺杂ZnO薄膜的结构和光学性质的影响

退火对N掺杂ZnO薄膜的结构和光学性质的影响

     

摘要

采用磁控溅射法在石英衬底上制备N掺杂ZnO薄膜(ZnO:N),随后进行了退火处理,研究了退火温度对ZnO:N薄膜结构和光学性质的影响。结果表明:所有ZnO:N薄膜均为纤锌矿结构;退火处理能改善薄膜的结晶质量,且能有效调控ZnO:N薄膜中间隙锌缺陷浓度,进而影响薄膜的光学带隙。

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号