机译:用于微机械加工的化学放大的环氧化光刻胶的表面硅烷化优化
Functionalization of polymers; Microstructure; Photoresists; Selectivity;
机译:用于微机械加工的化学放大的环氧化光刻胶的表面硅烷化优化
机译:使用干膜光刻胶对圆柱形内表面上的微凹坑阵列进行电化学微加工
机译:用于超厚UV-LIGA应用的化学放大光刻胶的微结构特征
机译:化学增幅光刻胶的新型表面甲硅烷基化工艺
机译:通过施加电场在化学放大的光刻胶中置换各向异性酸催化剂。
机译:硬质光刻胶作为180°C以下表面微加工工艺的牺牲层
机译:使用干膜光致抗蚀剂对圆柱形内表面上的微凹坑阵列进行电化学微加工
机译:化学修饰电极的电子转移反应模式:基础及其在氧化还原再循环扩增系统优化中的应用博士论文