...
机译:H-2 / CH4 /四甲基硅烷在金刚石/β-SiC纳米复合膜沉积中可能的气相反应:从头算研究
CHEMICAL-VAPOR-DEPOSITION; COMPOSITE FILMS; TETRAMETHYLSILANE; SILICON; GROWTH; STEEL; COATINGS; INTERLAYER; PYROLYSIS; ADHESION;
机译:H-2 / CH4 /四甲基硅烷在金刚石/β-SiC纳米复合膜沉积中可能的气相反应:从头算研究
机译:金刚石/β-SiC纳米复合中间层在Si上沉积无应力金刚石膜
机译:将金刚石/β-SiC纳米复合膜沉积到切削工具材料上
机译:使用四甲基硅烷通过热壁MOCVD沉积Beta-SiC
机译:等离子体物理学中的无氢类金刚石碳薄膜和纳米复合材料的脉冲激光沉积。
机译:使用He / H2 / CH4 / N2气体混合物通过微波等离子体化学气相沉积法合成超光滑纳米结构金刚石膜
机译:关键的气相和表面反应涉及金刚石薄膜的化学气相沉积