机译:氢高分压对射频磁控溅射制备碳化硅薄膜纳米晶体结构影响的研究
Nanocrystalline hydrogenated silicon carbide; Radiofrequency magnetron sputtering technique; Hydrogen dilution; Fourier transform infrared; Raman spectroscopy;
机译:氢高分压对射频磁控溅射制备碳化硅薄膜纳米晶体结构影响的研究
机译:氧分压和衬底温度对磁控溅射制备的Mg_xZn_(1_x)O薄膜结构和光学性能的影响
机译:不同N-2分压下ECR-微波等离子体源增强直流磁控溅射制备Zr-N膜的结构和性能
机译:直流反应磁控溅射在不同氧分压下制备的氧化铜薄膜的物理性能
机译:非垂直入射反应磁控溅射制备的金属氮化物(氮化铝,氮化钛,氮化ha)薄膜的织构演变。
机译:射频磁控溅射碳化硅和钨hen基薄膜热电偶保护涂层的热电特性
机译:射频磁控溅射制备锗和硅掺杂的氧化铟薄膜