机译:在低温下使用低对比度负极性PMMA进行3D电子束光刻
3D lithography; low-temperature electron-beam lithography; PMMA; microlenses; semiconductor nanostructures;
机译:在低温下使用低对比度负极性PMMA进行3D电子束光刻
机译:具有双调特性的超灵敏非化学放大低对比度负电子束光刻胶
机译:利用FIB电子束双束光刻技术从PMMA制备碳纳米机械谐振器
机译:用于亚10纳米电子束光刻的PMMA的低温显影
机译:低温温度聚焦电子束诱导沉积的探索
机译:勘误表:De TeresaJ.M。等。室温和低温条件下聚焦电子/离子束诱导沉积的比较。微型机械201910799
机译:CsaR 62作为高对比度电子束光刻的负色调抗蚀剂 温度在4 K和室温之间