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机译:纳米压印光刻技术对100 nm以下纳米电极的双层剥离纳米加工控制间隙
nanoelectrode; nanoimprint lithography; double layer;
机译:纳米压印光刻技术对100 nm以下纳米电极的双层剥离纳米加工控制间隙
机译:分步重复紫外纳米压印光刻技术用于15纳米以下图案的多层剥离工艺
机译:使用正性光刻胶ZEP520 / P(MMA-MAA)/ PMMA三层膜通过在50 kV电子束光刻下两次曝光进行亚100 nm T栅极制造
机译:用气隙对控制环境的聚乙烯覆盖双层的影响温室
机译:纳米压印光刻技术在纳米器件和纳米加工中的应用。
机译:金属纳米结构在流体通道中的整合荧光和拉曼增强纳米压印光刻和剥离组成抗蚀剂堆积
机译:通过纳米压印光刻技术对亚100nm外延L10 Fept点阵列进行大面积图案化
机译:用于亚100nm X射线光刻的紧凑,低成本系统