机译:根据光吸收数据,磁控溅射碳化硼薄膜的光学常数在30到770 eV之间
机译:根据光吸收数据,磁控溅射碳化硼薄膜的光学常数在30到770 eV之间
机译:磁控溅射镁薄膜在25-1300 eV能量范围内的光学常数
机译:电子束蒸发的硼薄膜在6.8-900 eV光子能量范围内的光学常数
机译:由热压硼碳化硼靶的DC磁控溅射生长碳化硼薄膜的表征
机译:Closo-Carbane的光致碎裂过程和过渡金属掺杂的半导体碳化硼薄膜的局部结构。
机译:不同生长角度的射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学性质
机译:磁控溅射镁薄膜在25-1300 eV能量范围内的光学常数