机译:未掺杂和N掺杂的锐钛矿型TiO2的p型外延薄膜的原子层沉积
atomic layer deposition; epitaxial thin films; N-doped TiO2 thin films; p-type conductivity; room-temperature ferromagnetism; photoresponse; p-n homojunction;
机译:未掺杂和N掺杂的锐钛矿型TiO2的p型外延薄膜的原子层沉积
机译:具有p型电导率的未掺杂TiO2的原子层沉积
机译:非掺杂/ N掺杂Be_xZn_(1-x)O合金外延膜的相变,带隙工程和p型导电
机译:低压化学气相沉积(LPCVD)混合相析脂酶TiO2和掺杂TiO2(B)薄膜的合成与表征
机译:薄膜应用的分子工程:区域选择性原子层沉积(ALD)和分子原子层沉积(MALD)。
机译:膜厚对原子层沉积超薄TiO2薄膜气敏特性的影响
机译:采用RF磁控溅射法制造的N掺杂和未掺杂的P型ZnO薄膜的光致发光分析