机译:原子层沉积法向InP中生长的HfO2中掺入氮的影响:结构,化学和电学特征的演变
thin films; indium phosphide; nitridation; hand alignment;
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机译:原子层沉积在InAs上生长的EOT HfO2(<1 nm)的结构和电学性质及其热稳定性
机译:由原子层沉积制造的调制HFO2 / Al2O3薄膜的热稳定性,结构和电特性
机译:原子层沉积生长Al掺杂TiO2高k栅介质的结构和电学特性
机译:通过金属有机化学气相沉积相选择合成Tl-Ba-Ca-Cu-O薄膜和多层结构。工艺优化,相变,电学表征和微结构发展。
机译:通过等离子体增强原子层沉积制备的硅氧氮薄膜的微结构化学光学和电学性质的测量
机译:臭氧后沉积处理对界面和电学的影响 原子层沉积al2O3和HfO2薄膜在Gasb上的特性 基板