МАГНЕТРОННОЕ РАСПЫЛЕНИЕ ИЗ ДВУХ ИСТОЧНИКОВ В ПРОЦЕССЕ ОБРАЗОВАНИЯ ГЕТЕРОГЕННЫХ СТРУКТУР НАНО- И МИКРОЭЛЕКТРОМЕХАНИЧЕСКИХ СИСТЕМ

摘要

Представлены результаты применения метода магнетронного распыления для создания гетерогенных структур нано- и микроэлектромеханических систем (НиМЭМС) датчиков механических величин. Сформулированы основные требования, предъявляемые к слоям гетерогенной структуры НиМЭМС. Показаны преимущества метода магнетронного распыления по сравнению с методом термического испарения в вакууме. Обосновано использование метода магнетронного распыления из двух источников для управляемого синтеза тензорезистивных плёнок из тугоплавких материалов. Дано описание технологического процесса получения наноразмерных плёнок Ni-Ti, образования гетерогенных структур НиМЭМС. Определены условия получения плёнок Ni-Ti с высоким удельным электрическим поверхностным сопротивлением и низким значением температурного коэффициента сопротивления различного знака.