イオン、プラズマを使ったクリーン化最前線：プラズマCVD装置内でのダストの静電除去－プラズマプロセスのクリーン化に寄与する技術の開発

摘要

本稿では、静電気力を利用した除去装置によるダスト微粒子汚染の制御を検討した結果ついて紹介した。 ダスト除去装置は印加する電圧を調整することにより、幅広い範囲の粒子を吸引除去することができ、クリーンな成膜のための実用的な装置にとなりえることがわかった。 また、プラズマプロセスではチャンバーの内壁やシャワーヘッドの壁面もダストにより汚染されやすく、汚染された壁面からの発塵に起因する汚染も問題視されている。 今後、プラズマプロセスのクリーン化に向け、本稿で紹介した除去装置の改良、さらには新たな除去技術の開発に取り組んで行こうと考えている。