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【24h】

可変成形型電子ビーム露光装置のためのレイアウトのL型分割手法

机译:可变模制电子束曝光设备的布局L形分割方法

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摘要

LSIのマスク製造に用いられている電子ビーム露光装置は矩形形状のビームしか照射できない為,レイアウトを矩形に分割して1つずつ露光していくのだが,LSIの高集積化により露光する矩形数が増え,これに伴ってマスク製造コストが増大している.そこでL型形状のビームを照射できるように露光装置を改良する事を前提に,レイアウトを矩形とL型に分割する手法が提案きれたが,この手法は必ずしも矩形とL型の合計個数が最小となる様にレイアウトを分割可能であるとは限らない.そこで本稿では最小個数に分割する動的計画法を用いたアルゴリズムを提案する.
机译:由于用于制造LSI掩模的电子束曝光设备只能照射矩形束,因此将布局划分为多个矩形并一一曝光,但是由于LSI的高度集成,要曝光的矩形数量会增加。在增加,并且掩模的制造成本也在相应地增加。因此,在改进曝光装置以使其能够照射L形光束的前提下,已经提出了将布局分为矩形和L形的方法,但是该方法不一定具有最小总数的矩形和L形。并非总是可以如此划分布局。因此,在本文中,我们提出了一种算法,该算法使用划分为最小数量的动态规划方法。

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