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可変成形型電子ビーム露光装置のためのレイアウトのL型分割手法

机译:用于可变模具电子束曝光装置的布局的L型分割方法

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摘要

LSIのマスク製造に用いられている電子ビーム露光装置は矩形形状のビームしか照射できない為,レイアウトを矩形に分割して1つずつ露光していくのだが,LSIの高集積化により露光する矩形数が増え,これに伴ってマスク製造コストが増大している.そこでL型形状のビームを照射できるように露光装置を改良する事を前提に,レイアウトを矩形とL型に分割する手法が提案きれたが,この手法は必ずしも矩形とL型の合計個数が最小となる様にレイアウトを分割可能であるとは限らない.そこで本稿では最小個数に分割する動的計画法を用いたアルゴリズムを提案する.
机译:由于用于制造LSI的电子束曝光装置只能用矩形形状束照射,因此布局被分成矩形并逐一曝光,但是由于LSI的高集成而暴露的矩形数量,因此掩模制造成本正在增加。 因此,提出了将布局分成矩形和L型的方法,以便曝光装置改进,使得它可以用L形形状照射,但是该方法不一定是矩形的总数和l型并不总是可以划分布局。 因此,在本文中,我们提出了一种使用动态编程方法划分为最小数量的算法。

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