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速度性能とタイミングスキュー調整特性に優れたデータパスの合成手法

机译:具有优异的速度性能和时序偏斜调整特性的数据路径综合方法

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摘要

半導体集積回路の微細化、大規模化に伴い、回路内のデータ信号の伝搬遅延のばらつきが相対的に拡大している。こうした遅延時間のばらつきによる回路の製造歩留まり低下、製造コストの増加が深刻な問題になっている。この問題に対して、信号伝搬遅延時間のばらつきに対応して、PDEを利用して、各レジスタや演算器の制御信号に適当なスキュー値を導入することにより、データパス回路のタイミングエラーが回避できる。本稿では、チップ製造後のスキュー調整にて、高い歩留まりで高い性能を引き出すための高位合成手法を検討、提案する。手法一は、ECG(Extended Conflict Graph)に対する、順序彩色によりキュー調整成功確率が高い資源割当を得ようとするものである。これと併せて、遅延値のばらつきを考えずに、スキューを考慮してクロック周期を最小化する資源割当を得る手法二、手法一と手法二を組み合わせた手法三をILP定式化し、それぞれの手法で得られる合成結果に対して、スキュー調整成功確率を評価し、各割当手法を比較評価する。
机译:随着半导体集成电路的小型化和规模化,电路中数据信号的传播延迟的变化相对扩大。由于延迟时间的这种变化,电路制造成品率的降低和制造成本的增加已成为严重的问题。为了解决这个问题,可以通过响应信号传播延迟时间的变化,通过使用PDE将适当的偏斜值引入到每个寄存器或算术单元的控制信号中,来避免数据路径电路的定时误差。它可以。在本文中,我们研究并提出了一种高级合成方法,该技术可以在芯片制造后通过偏斜调整来带来高产量的高性能。方法1是通过对ECG(扩展冲突图)进行顺序着色来获得成功进行队列调整的高概率资源分配。同时,用于在不考虑延迟值的变化的情况下考虑偏斜来获得使时钟周期最小的资源分配的ILP制定方法2,以及将方法1和方法2相结合的方法3以及每种方法。对于获得的合成结果,评估偏斜调整成功概率,并比较和评估每种分配方法。

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