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ダメージフリーマルチガスプラズマジェットによるポリイミドフイルムの親水化処理

机译:无损多气体等离子流亲水化处理聚酰亚胺薄膜

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摘要

ポリイミドフイルムは電子機器の基板材料として昨今広く用いられるようになった.しかし,その表面は難親水性であるため,接着剤での貼合が容易ではなく,強固な接着力を得るためには親水化処理が必須である.その多くは化学的処理によるもの,もしくは真空プラズマを用いるものがほとんどであったが,本論文では,大気圧下で生成·照射が可能なダメージフリーマルチガスプラズマジェット発生源を開発し,これにより発生するアルゴン,窒素および酸素プラズマにより,ポリイミドフイルムの表面親水化実験を行った.効果の高かった窒素と酸素プラズマに関して,処理前後でのフイルム表面の結合状態変化をXPSで観測した.その結果,窒素および酸素どちらのプラズマでも,処理後のフイルム表面では,C=O結合の割合の増加が確認された.次に,大気遮断下で親水化処理実験を行った結果,窒素とアルゴンは大気開放条件に比べて親水化効果が低下したが,酸素はほぼ同じ挙動を示した.これより,窒素プラズマによる親水化には,生成きれたプラズマで大気中の酸素がラジカル化きれる効果が寄与していると結論した.
机译:多边形膜最近已被广泛用作电子设备的基材。但是,由于该表面难以亲水,因此难以与粘合剂结合,并且亲水化处理对于获得强粘合力是必不可少的。它们中的大多数经过化学处理或使用了真空等离子体,但是在本文中,我们开发了一种无损伤的多气体等离子体喷射源,该源可以在大气压下产生和辐照。使用产生的氩,氮和氧等离子体进行聚酰亚胺膜的表面亲水性实验。对于高效的氮和氧等离子体,通过XPS观察处理前后的膜表面的结合状态的变化。结果,证实了在用氮和氧等离子体处理后,膜表面上的C = O键的比例增加。接下来,由于在空气切断条件下进行了亲水化处理实验,因此氮气和氩气的亲水化作用低于露天条件,但是氧气表现出几乎相同的行为。由此得出结论,通过产生的等离子体使大气中的氧自由基化的作用有助于通过氮等离子体进行亲水化。

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