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半導体デバイス製造技術(リソグラフィー法)の触媒表面の微細加エへの応用と反応性の制御

机译:半导体器件制造技术(光刻方法)在精细添加催化剂表面和控制反应性中的应用

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摘要

触媒と半導体の関係は,1950~60年代にバンド理論に基づいた触媒作用や光触媒作用の理解などの研究例から密接な関連を持ち続けている。 また,表面科学的手法は半導体や触媒表面の両分野の研究に利用されている。 近年では,ナノサイエンスという側面でゼオライトのような多孔性物質やナノクラスターも両分野で盛んに研究されている。 このようにマクロな現象では異なる性質が利用され,異なる分野(半導体は物理,触媒は化学)に属する2つの関係は意外に密接である。
机译:催化剂和半导体之间的关系仍然与研究实例密切相关,例如在1950年代和1960年代基于能带理论理解催化作用和光催化作用。此外,表面科学方法用于半导体和催化剂表面领域的研究。近年来,从纳米科学的角度,在两个领域中都积极地研究了诸如沸石和纳米团簇的多孔材料。以此方式,在宏观现象中使用了不同的性质,并且属于不同领域(半导体的物理性质和催化剂的化学性质)的两个关系令人惊讶地接近。

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