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PECVDプロセスにおける生成ダスト微粒子のための小型レーザ光散乱モニタリング装置の開発

机译:研发一种小型激光散射监测设备,用于监测PECVD工艺中产生的粉尘颗粒

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摘要

プラズマプロセッシング技術は,多種のプラズマやプラズマ発生技術の開発に伴い,液晶,太陽電池,半導体などの製造プロセスにおけるエッチングや薄膜堆積,スパッタリングなど多岐にわたって利用されており,工業·産業分野での重要性がますます高まってきている。 しかしながら,プラズマプロセスでは,プラズマ反応によって生成する活性種濃度が高くなると,気相中で均一核生成が起こり,微粒子が発生することが報告されている。
机译:随着各种类型的等离子体和等离子体产生技术的发展,在液晶,太阳能电池,半导体等的制造过程中,等离子体处理技术被广泛用于蚀刻,薄膜沉积,溅射等。越来越多。然而,据报道,在等离子体工艺中,当由等离子体反应产生的活性物质的浓度增加时,在气相中发生均匀的成核并产生细颗粒。

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