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【24h】

マイクロ成形加工における高転写射出成形技術

机译:微成型中的高传递注射成型技术

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摘要

半導体チップのフリップチップ実装プロセスにおいてチップと回路基板とを接合する際、台座の役目を果たす微細突起(成形バンプ)を立体回路(MID)基準上に一体で成形する方法が考案されている。その工法においては、直径·高さが数十μm程度のマイクロ形状の成形バンプを転写よく成形できるかどうかが重要管理項目の1つである。 本報告では、成形バンプの転写性を確保するための成形条件を明確にするとともに、超高速射出成形の適用可能性について検討する。
机译:在半导体芯片的倒装芯片安装过程中,已经设计出一种方法,其中当芯片和电路板接合时,将用作基座的细微突起(模制凸块)一体地模制在三维电路(MID)标准上。在该构造方法中,重要的控制项目之一是直径和高度约为几十μm的微形成型凸块是否能够被良好地转印。在本报告中,我们阐明了确保模制凸块可传递性的模制条件,并研究了超高速注塑的适用性。

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