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RFマグネトロンスパッタリング法によるLiMn_2O_4薄膜生成への石英円筒の効果

机译:射频磁控溅射石英圆柱对LiMn_2O_4薄膜形成的影响

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摘要

RFマグネトロンスパッタリング法により、Li二次電池正極用のLiMn_2O_4薄膜を生成している。ターゲットには、LiMn_2O_4粉末を用い、連続して複数回のスパッタを行った。本研究は、反応性スパッタリング中での、ターゲットの酸化防止法として考案された。ターゲットとシャッター間に石英円筒を設置し、蒸着速度の変化、薄膜結晶性を調べた。石英円筒を使用することにより蒸着速度が増加した。また、XRD測定を行った結果、30分の蒸着でLiMn_2O_4薄膜が生成できた。
机译:通过RF磁控溅射法制造用于Li二次电池的正极侧的LiMn_2O_4薄膜。将LiMn_2O_4粉末用作靶,并连续进行多次溅射。该研究被设计为反应溅射过程中的目标抗氧化剂方法。将石英圆柱体放置在靶和快门之间,并研究气相沉积速率和薄膜结晶度的变化。通过使用石英圆筒来增加沉积速率。另外,作为XRD测量的结果,可以通过气相沉积30分钟来形成LiMn_2O_4薄膜。

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