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【24h】

直線状エロージョンマグネトロンスパッタリングによる(11(anti 2)0)配向ZnO圧電膜の大面積成膜

机译:线性腐蚀磁控溅射大面积成膜(11(anti 2)0)ZnO压电薄膜

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摘要

これまで,円形エロージョンを有したRPマグネトロンスパッ装置を用いた(11(anti 2)0)Zno圧電膜の作製の報告がなされている.しかしこの場合は基極上の微小な領域でしか十分に配向せず,またc軸がウェハ面内で放射状に配向するといった課題があった.今回,我々は直線エロージョンをもったスパッタ陰極を用いることで,基板の広範囲で良好な結晶性を有し,かつ圧電軸が同一方向に配向した(11(anti 2)0)配向ZnO圧電膜の作製に成功したため,その結果を報告する.
机译:迄今为止,已经报道了使用具有圆形腐蚀作用的RP磁控溅射装置制备了(11(抗2)0)Zno压电膜。然而,在这种情况下,存在的问题是,仅在基础电极上的微小区域中取向就足够了,并且c轴在晶片平面中径向地取向。这次,通过使用具有线性腐蚀作用的溅射阴极,我们可以在宽范围内获得良好的衬底结晶度,并且压电轴的取向是在相同方向(11(抗2)0)取向的ZnO压电膜上进行的。由于生产成功,我们将报告结果。

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