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邢士龙; 闵光辉; 庞涛;
山东大学材料科学与工程学院,济南 250000;
昌吉学院物理系,昌吉 831100;
反应磁控溅射; ZnO/Al(O)/ZnO薄膜; 氧掺杂; 氧气流量;
机译:直流磁控溅射法制备掺铁ZnO薄膜的微观结构和光学性能
机译:射频磁控溅射法制备透明ZnO薄膜的光学常数
机译:膜厚对射频磁控溅射法在玻璃和Al_2o_3(0001)衬底上制备的Ga掺杂Zno薄膜的结构和电性能的影响
机译:用原子层沉积增强光学性质的多层ZnO / TiO_2 / ZnO薄膜的制备(ALD)
机译:高k HfO2栅介质的射频溅射ZnO薄膜晶体管制造条件的优化。
机译:原子层沉积制备的掺钛ZnO薄膜的结构电学和光学性质
机译:氮化钽薄膜的结构和电学性能 采用反应射频磁控溅射法制备
机译:用于下一代显示器的原子层沉积制备的高性能和高可靠性ZnO薄膜晶体管。
机译:ZnO薄膜结构和ZnO薄膜晶体管的制造方法,ZnO薄膜结构和ZnO薄膜晶体管
机译:含ZnO薄膜生长的原始材料供应源,生产含ZnO薄膜的装置和方法以及包括ZnO薄膜的发光元件
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