直線状エロージョンマグネトロンスパッタリングによる（1120）配向ZnO圧電膜の大面積成膜

摘要

In previous studies, fabrication of (1120) textured ZnO piezoelectric films have been reported by using RF magnetron sputtering with circular cathode. However, in these studies, there have been two problems related to the practical application. The problems are that (i) highly oriented films can be obtained only in a small area, and (ii) crystallites c-axis in the films was oriented radially in the substrate plane. In this study, we make an attempt to realize the in-plane unidirectional orientation in a large area by using sputtering cathode with linear erosion.%これまで，円形エロージョンを有したⅣマグネトロンスパッ装置を用いた（1120）Zno圧電膜の作製の報告がなされている．しかしこの場合は基板上の微小な領域でしか十分に配向せず，また。軸がウェハ面内で放射状に配向するといった課題があった・今回，我々は直線エロージョンをもったスパッタ陰極を用いることで，基板の広範囲で良好な結晶性を有し，かつ圧電軸が同一方向に配向した（1120）配向ZnO圧電膜の作製に成功したため，その結果を報告する．