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第一章绪论
1.1铁电材料
1.1.1铁电材料铌酸锶钡的物理性能
1.1.2铌酸锶钡材料的应用
1.2铌酸锶系列薄膜的研究现状
1.2.1铌酸锶钡(SBN)薄膜
1.2.2钾钠铌酸锶钡(KNSBN)
1.2.3钾铌酸锶钡(KSBN)
1.2.4铌酸锶钙钠(SCNN)
1.3 ITO透明导电薄膜
1.3.1 ITO薄膜的电学性质:
1.3.2 ITO薄膜的光学性质:
1.3.3 ITO薄膜的制备
1.3.4 ITO薄膜作为铁电材料的电极的研究
1.4本文的研究内容和创新点
参考文献
第二章薄膜的制备及性能测试
2.1磁控溅射技术
2.1.1磁控溅射原理
2.1.2射频磁控溅射系统及工艺流程
2.2 sol-gel制备法
2.3薄膜性质测试
2.3.1原子力显微镜
2.3.2 X射线衍射分析
2.3.3透射光谱
2.3.4反射率的测量
2.3.5 I-V曲线的测量
参考文献
第三章SBN薄膜的制备和性能表征
3.1引言
3.2 SBN薄膜的磁控溅射制备
3.2.1缓冲层KSBN薄膜的制备
3.2.2 SBN薄膜的制备
3.3结果与讨论
3.3.1晶体结构分析
3.3.2表面形貌分析
3.3.3电学特性分析
3.4结论
参考文献
第四章ITO薄膜的制备及光学和电学特性的研究
4.1透明电极ITO薄膜的制备
4.1.1 ITO薄膜的制备
4.2工艺参数对ITO薄膜光学和电学性能的影响
4.2.1衬底温度对ITO薄膜光学和电学性能的影响:
4.2.2退火温度对ITO薄膜的光学和电学性能的影响
4.2.3工作气压对ITO薄膜的光学和电学性能的影响
4.3 ITO薄膜的反射率的测量和红外波段透过率的测量
4.4 ITO薄膜的晶体结构研究
参考文献
第五章总结与展望
5.1对已完成工作的总结
5.2存在的问题与发展方向
5.2.1关于改进溅射工艺的建议
5.2.2对下一步工作提出的建议
硕士期间完成的论文
致谢