島津製作所，高バリア性と高透明度を実現する成膜技術を開発

摘要

㈱島津製作所は，有機ELディスプレイの薄膜封止用として，水蒸気透過率10~(-6)g／m~2／d以下という高いバリア性と光透過率90％以上という高い透明性を持つ窒化膜薄膜を，100℃以下の低温で形成する技術を開発した。素子にダメージを与えることなく成膜することができるため，有機ELディスプレイの製造への適用を可能にしている。バリア膜の形成には，有機材に有機化合物と無機化合物による積層膜を重ねる方法などがあるが，本開発技術では無機化合物のみで成膜できるため，複雑なプロセスが不要であり，低コストで高いバリア膜を成膜することができる。