中空構造栽培槽の空間緑化基盤としての特性とイチゴぉ よびレタスの生育

摘要

屋上緑化や壁面緑化では培地の量が制限されるため，特に 気温の高い夏期において植栽への影響が懸念される。この問題に 対して，薄層の培地を円筒状に加工して中空構造とし，これを空 中に設置することで培地温度の上昇を抑制することを試みた。そ の結果，通常用いられるプランタ一形状の栽培槽ょりも培地温度 の上昇を抑制でき，植栽したイチゴの生育が良好になった。また， 本構造は，支持方法を簡易にでき，草姿の制限が少ないレタスの ような植物種であれば栽培槽の底面にも植栽できることから，様 々な空間を緑化する基盤材としても優れていると考えられた。