半導体·液晶プロセスにおける光干渉計測の応用

摘要

当社は2000年に光干渉計測による表面形状測定装置を商品化した．従来はおもに研究·開発用途で使われていた光干渉計測を，1桁高速化したことにより，FA用途でも使えるようにした．その後，レジストなどの透明膜越しに膜下面の形状を計測するニーズがあり，2002年に透明膜対応アルゴリズムを光干渉計測では世界で初めて実用化し，表面形状だけでなく膜下面形状や膜厚分布の同時計測を可能にした．さらに2006年には，それまで不可能であった1μm以下の透明薄膜にも対応し，塗布膜や蒸着膜など薄膜の形状計測を可能にした．本稿では，当社の表面形状測定装置SPシリーズによる半導体や液晶プロセスなどへの応用例について紹介する．