半導体・液晶プロセスにおける 干渉計測の応用

摘要

光干渉を利用した表面形状測定装置1，2）は，カメラ視rn野内の表面凹凸を，高精度，かつ高速に一括して面計測rnできることから，産業界において広く利用されている。rn我々は，2000 年に純国産技術による商品を開発以来，顧rn客のニーズに応えるべく，次々と新技術を開発してきた。rnここでは，それらの技術と半導体・液晶プロセスを中心rnとした産業界における応用例を紹介する。