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セラミックスの接合·接着の最前線:無機材料ウエハの表面活性化常温接合

机译:陶瓷粘接和粘接的最前沿:无机材料晶片的表面活化室温粘接

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摘要

常温接合は,接合前の表面をイオン衝撃やプラズマ照射により積極的に活性化し,固体表面が本来持っている凝集エネルギーをそのまま接合に利用することにより,従来よりも低温で,場合によっては常温で接合を実現する手法である.そこで,この接合手法を「表面活性化接合(SAB, Surface Activated Bonding)」あるいは「表面活性化常温接合」と称している.本稿では,従来の常温接合の研究成果を総括するとともに,MEMSパッケージや半導体の3Dインテグレーションへの適用に期待値の大きいウエハスケールの接合に焦点を絞り,その現状と課題を総括する.
机译:在常温粘合中,粘合前的表面会通过离子碰撞或等离子辐射被主动激活,并且原本由固体表面拥有的内聚能直接用于粘合,因此温度比以前更低,有时甚至在室温下。这是一种实现连接的方法。因此,该结合方法称为“表面活化结合(SAB)”或“表面活化室温结合”。在本文中,我们将总结常规室温键合的研究成果,重点是对在MEMS封装和半导体的3D集成中应用有很高期望的晶片级键合,并总结当前的现状和问题。

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