表面形状測定装置「ナノメトロFシリーズ」＜ユーザーニーズに応える精度評価システム＞

摘要

近年、半導体産業の進展に伴ってシリコンウェーハ、ガラス基板などの大型化が進められてきた。 その一方、平面度などの幾何特性に対しては従来以上の高い精度が要求されるようになっている。さらに半導体関連の製造装置、検査装置の構成部品に関しても大型·高精度化が求められている。 これらの精度評価には、大面積に対応可能で信頼性の高い測定技術が不可欠となっている。 また、評価項目についても多様化が進んでいるのが現状である。 このような大型·高精度化のニーズに応えるため、黒田精工では表面形状測定装置「ナノメトロFシリーズ」を提供し、300mmシリコンウェーハの高平坦化、ガラス基板の品質管理などに貢献してきた。 本稿ではナノメトロFシリーズの測定原理、構造、特長について紹介する。