ミリ波によるセラミックスのプロセッシングと陽イオン拡散

摘要

マイクロ波のうち波長の短いミリ波を用いることにより，均一安定なセラミックスの加熱が可能になるほか，低温迅速焼結の例が報告されている．急速昇温しても内部から焼結が進むため，事後に加圧焼結を行っても気孔が内部に残りにくい．このため短時間完全焼結に有効で，焼結体の熱伝導率の向上をもたらす．また，短時間焼結に関係すると思われる陽イオンの拡散促進の事例について報告する．