レーザーCVDの基礎と応用

摘要

化学気相析出（CVD）は，成膜速度が遅く，一般には薄膜の製造プロセスと考えられている．しかし，高強度のレーザーをCVDの反応場に照射することにより，成膜速度が数百から数千倍増大し，厚さ数百μm以上の炭化物，窒化物，酸化物など種々の構造用および機能性セラミックス厚膜の作製が可能になる．本稿では，CVDおよびレーザーCVDの基礎と応用について概説する．