マイクロ波励起表面波プラズマ半導体処理装置のFDTD法解析

摘要

半導体素子制造の新しい方法であるマイクロ波励起表面波プラズマプロセスでは、印加されるマイクロ半波とプラズマの生成、僅質についてはまだ完全には解明されておらず、またマイクロ波の波長が装置のサイズ同程度であるため、効率的なプラズマの発生には形状の妓適化を要するという問題がある。 そこで本研究では、FDTD法にプラズマの運軌塵輸送方程式を加えてプロセス中のマイクロ波の振舞い及びプラズマの性質を数値的に佃併し、より効率的なプロセス装置の設計に役立てるための検討を行ったので報告する.