真空紫外エキシマランプを用いたペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

摘要

PHPS溶液をスピンコートした薄膜について，Xe_2~*ェキシマラソプを用いて波長が172nmのVUV光を照射することにより，シリカへの転化を試み，その膜質について検討した。 その結果，酸素存在下での照射により，コーティング膜中のNが除去されるとともにOが膜中に取り込まれることで，シリカへ転化することが分かった。 照射条件によって形成した膜の組成や光学特性は著しく異なり，乾燥空気中での照射により，500 deg Cで熱処理したときと同等の光学透過率をもつ膜を形成できた。 膜に与える照射の効果としては，照射光のエネルギーによる化学結合の切断よりも，O_2がVUV光を吸収することにより生成されたO（~1D）やO_3による酸化作用の大きいことが示唆された。