机译:气体流量对双频CF_4 / C_4F_8 / Ar电容耦合等离子体中带有非晶碳掩模的低k sicoh膜蚀刻特性的影响
ACL; Dual-frequency superimposed capacitively-coupled plasma (DFS-CCP); Etch selectivity; Line edge roughness (LER); Organosilicate glasses (SiCOH); Plasma etching;
机译:气体流量对双频CF_4 / C_4F_8 / Ar电容耦合等离子体中带有非晶碳掩模的低k sicoh膜蚀刻特性的影响
机译:双频叠加电容耦合CF_4 / O_2 / Ar和CF_4 / CHF_3 / O_2 / Ar等离子体中ArF和EUV抗蚀剂蚀刻特性的比较研究
机译:通过使用基于C_4F_8 / Ar和CF_4 / H_2的电容耦合等离子体的间隙结构来研究碳氟化合物薄膜的沉积及其与蚀刻的沟槽侧壁角度的相关性
机译:CF_4和CF_4 / C_4F_6在基于连续波等离子体蚀刻中形成的致密SICOH氟 - 碳层的研究
机译:用微波ECR等离子体反应器沉积氢化非晶碳膜的膜性能和沉积过程的研究。
机译:射频磁控溅射在不同N2 / Ar气体流量下生长的Zn3N2薄膜的XPS深度剖面分析
机译:用线性Ar / CH4微波等离子体合成的氢化非晶碳膜的疏水性和力学特性
机译:离子束沉积在陶瓷基板上的无定形碳膜的石墨 - 类金刚石行为的摩擦学研究。