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机译:SEMATECH的EUV研究活动
photoresist; EUV; photo masks; SEMATECH;
机译:SEMATECH的EUV研究活动
机译:EUV活动地点转移到Sematech North
机译:SEMATECH实现了突破性的EUV掩模板缺陷减少
机译:SEMATECH Berkeley MET:展示化学放大的EUV抗蚀剂中的15nm半间距和EUV抗蚀剂在6.xnm处的灵敏度
机译:研发联盟会增加专利价值吗?:SEMATECH案例。
机译:使用极端紫外(EUV)辐射和EUV诱导的氮等离子体的聚醚醚酮(PEEK)的物理化学表面改性
机译:Sematech的EUV研究活动