Sematech在EUV技术上实现突破实现22nm半节点分辨率

摘要

据EE Times网站报道：Sematech宣布使用极紫外（EUV）光刻技术获得了22nm的半节距分辨率。同时还成功获得了20nm以下的特征尺寸。Sematech称这些结果显示了EUV在22nm节点的应用前景。