机译:高NA ArF光刻中深亚波长掩模特征的矢量成像
ArF immersion lithography; polarization; resonance; pellicle apodization; mask absorber material; optical proximity correction (OPC); shadowing;
机译:高NA ArF光刻中深亚波长掩模特征的矢量成像
机译:西伯利亚同步加速器和太赫兹辐射中心的深层X射线光刻掩模制造特征
机译:基于矢量成像模型的光刻中的掩模优化方法
机译:使用248 nm KrF和193 nm ArF光刻设计140纳米及更小特征的双沟槽交替相移掩模
机译:利用基于图像的格式,以优化模式数据格式和掩模和掩模模式生成光刻的处理
机译:使用热湿润的Pt / Pd合金蚀刻掩膜的无光刻法制备大面积亚波长抗反射结构
机译:用于减少糖尿病视网膜病变图像异常检测的特征向量的类内分离的Hermitian变换和蒙版的优化和同步设计
机译:利用金属介质多层膜从衍射限制掩模投射深亚波长图案