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机译:用于亚100 nm光刻的含EUV光刻胶的光酸产生剂的设计和性能
extreme ultraviolet; lithography; chemically amplified resists; photoacid generator; ARF LITHOGRAPHY;
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机译:用于50 nm以下EUV光刻的新型阴离子光酸产生剂(PAG)和相应的PAG键合聚合物
机译:通过EUV光刻技术开发的用于低于100 nm图案的新型聚合物结合光致产酸剂
机译:用于无掩模EUV光刻的纳米镜的设计,制造和光学分析
机译:高敏感性抗蚀性对EUV光刻进行抗衡性:材料设计策略和绩效结果综述
机译:新的阴离子光酸发电机结合的聚合物抵抗EUV光刻