机译:从含铜蚀刻废料中回收的氧化铜中的氯化物定量
Cupric Oxide; Copper Recycling Technology; Etchant Waste; Chloride Quantitation; Precipitation Titration;
机译:从含铜蚀刻废料中回收的氧化铜中的氯化物定量
机译:从氯化铜蚀刻剂废料中现场回收氧化铜的新技术
机译:酸性氯化铜蚀刻剂废料和脱锡废料再生的关键专利分析
机译:氯化铜蚀刻剂连续再生中的铜金属回收
机译:一氧化碳在未还原和还原的氯化钯,氯化铜及其混合物上的氧化,分散在氧化铝和碳上。
机译:由硅烷阴离子MeSiC4Ph4合成11-双(1-甲基/氯-2345-四苯基-1-硅环戊二烯基)Ph4C4Si(Me / Cl)-(Me / Cl)SiC4Ph4 −•Li +或Na +和Silole Dianion SiC4Ph4 2-•2 Li +;氯化亚铁(FeCl2)对硅阴离子MeSiC4Ph4-•Li +或Na +的氧化偶联和氯化铜(CuCl2)对硅阴离子SiC4Ph4 2-•2 Li +的氧化偶联和氯化处理
机译:从含铜的蚀刻剂废物中回收氯化铜中氯化物的定量
机译:酸性氯化铜印刷电路板蚀刻剂的电解再生。最终报告,1995年8月1日 - 1996年10月31日