声明
1 绪论
1.1 课题来源
1.2 背景和研究意义
1.2.1 电子加工行业废酸液
1.2.2课题来源的项目背景
1.2.3 关键工艺问题和研究目的分析
1.3 电解法处理含铜废蚀刻液的发展现状
1.3.1 电解方式和电解装置的发展现状
1.3.2 铜电沉积过程的研究
1.4 论文研究思路和技术路线图
2 实验材料和分析方法
2.1实验药品及仪器
2.1.1实验药品
2.1.2实验仪器
2.2分析与检测表征方法
2.2.1铜离子检测
2.2.2库伦效率和能耗的确定
2.2.3 X射线衍射分析(X-Ray Diffraction, XRD)
2.3.1循环伏安法(CV)和线性扫描伏安法(LSV)
2.3.2恒电流极化和恒电压极化
3 对废硝酸的电解法去除铜离子回收单质铜的试验研究
3.1不同电流密度下槽电压随电解时间的变化规律
3.2 电解条件对铜的去除率的影响
3.3铜电沉积的库伦效率
3.4能耗分析
3.5电沉积铜的表征
3.5.1形貌表征
3.5.2电沉积铜的纯度分析
3.5.3电沉积铜的抗拉强度测试
3.6本章小结
4 添加剂对铜电沉积的影响规律研究
4.1硫脲对电沉积的影响
4.1.1 线性扫描伏安法(LSV)
4.1.2 循环伏安法(CV)
4.1.3 添加硫脲后电沉积铜的SEM分析
4.1.4 添加硫脲后电沉积铜XRD分析
4.1.5添加硫脲后电沉积铜的抗拉强度
4.2 抑烟剂对电沉积的影响
4.2.1 添加抑烟剂后的线性扫描伏安曲线(LSV)
4.2.2添加抑烟剂后的循环伏安曲线(CV)
4.2.3 添加抑烟剂后的电沉积铜SEM分析
4.2.4 添加抑烟剂后的电沉积铜XRD 分析
4.2.5添加抑烟剂后的电沉积铜的抗拉强度
4.3 PEG对电沉积的影响
4.3.1 添加PEG后的线性扫描伏安(LSV)
4.3.2 添加PEG后的循环伏安曲线(CV)
4.3.4 添加PEG后的电沉积铜SEM分析
4.3.4 添加PEG后的电沉积铜XRD分析
4.3.5电沉积铜的抗拉强度
4.4 明胶对电沉积的影响
4.4.1添加明胶后的线性扫描伏安曲线 (LSV)
4.4.2 添加明胶后的循环伏安曲线(CV)
4.4.3 添加明胶后的电沉积铜SEM分析
4.4.4 添加明胶后的电沉积铜的XRD分析
4.4.5添加明胶后的电沉积铜的抗拉强度
4.5 本章小结
5 基于电解法的废硝酸蚀刻液处理再生应用研究
5.1 设计背景和规模
5.2 处理与回收工艺研究
5.3 主要设备设计计算和选型
5.3.1 电解装置
5.3.2 电渗析装置选型
5.3.3 旋流电解装置选型
5.4 经济性分析
5.5 结论
6 结论及建议
6.1 结论
6.2 建议
致谢
参考文献
附录 攻读硕士期间发表的学术论文及成果
